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光学レンズ用Emc体育全站剤のご提案

1. Emc体育全站工程に起因する不良について

光学レンズの製造工程で使用するEmc体育全站剤は、適切なものを選定しないと材質へのダメージや汚れの残留を引き起こします。

Emc体育全站ダメージの模式図、傷。汚れの残留
汚れ残渣によるふくれ、ムラの模式図

目に見えないような汚れの残渣が原因で、後工程のコーティングを行った際に、密着不良、ムラが発生してしまうことが多々あります。

実際の工程や現在発生している問題にあわせたEmc体育全站剤をご提案致します。
ぜひ 横浜油脂工業 にご相談ください。

2. 光学レンズ製造工程とEmc体育全站例

研磨加工まで

研磨加工の工程模式図。成型材料に仮固定ワックス使用し粗磨り・砂かけ・研磨し、仮固定ワックスをEmc体育全站で除去、続いて研磨剤をEmc体育全站し除去する。
製品名 対象汚れ 特徴
OT ワックス すすぎ性の高い溶剤ベースのEmc体育全站液。仮固定ワックスの除去に効果あり。
GC ピッチ
ワックス
溶剤ベース。ワックスやピッチの溶解力が非常に高い。
LC-2 研磨剤
ワックス
有機アルカリベースの希釈可能なEmc体育全站剤。ワックス除去だけでなく、研磨剤Emc体育全站にも使用可能。
NC-211H 研磨剤
油分
レンズへのダメージを抑えた研磨剤除去向けEmc体育全站液。指紋などの有機汚れ除去性にも優れる。
L.G.L 研磨剤
油分
強アルカリ性Emc体育全站液。研磨剤の分散性が高く、Emc体育全站力に優れる。

芯取り加工から墨塗りまで

芯取り加工~~墨塗りの工程模式図。芯取り加工の後、Emc体育全站で芯取り油を除去し、コーティングを行う。仕上げEmc体育全站にて指紋などを除去し、墨塗りを行う。
製品名 対象汚れ 特徴
ZA-2 芯取り油 巻き上げ効果で加工油を強力に除去。芯取り加工後のEmc体育全站に最適。
M-4 芯取り油
指紋等
乳化により油分を除去。芯取り後Emc体育全站だけでなく、仕上げEmc体育全站にも適する。
TI-2 墨塗り剤 墨塗り失敗時のリペアに最適。コートへのダメージを抑制。

上記のほか、ガラスレンズのヤケ取り剤や、研磨剤の固着防止剤などもございます。
ご不明点や気になる点がございましたら、お気軽にお問合せください。

3. Emc体育全站剤の性能特集

● セミクリーン NC-211H

主な用途
レンズの研磨剤やクーラント、芯取油の除去。
特徴
SK材、FK材、LAK材などのダメージが出やすい硝材のEmc体育全站が可能。
アルカリ系のEmc体育全站性を維持しながら、ダメージ抑制を実現。

● 試験例-酸化セリウム除去性比較

⇒ ガラスに酸化セリウムを塗布し、NC-211H(6%)と他社品(6%)で
Emc体育全站比較テストを実施。

試験前 NC-211H 他社Emc体育全站液
Emc体育全站テストの写真、試験前のスライドガラス Emc体育全站テストの写真、NC-211Hを使用してEmc体育全站したスライドガラス Emc体育全站テストの写真、他社Emc体育全站液を使用したスライドガラス
試験条件
  • 3分浸漬Emc体育全站、超音波(44kHz)あり
  • 1分純水すすぎ後、乾燥
  • 集光器を用いて評価

※研磨剤を過剰に塗布

レンズへのダメージを抑えつつ、研磨剤の高分散性を実現!

● セミクリーン ZA-2

主な用途
芯取加工後の油分除去、仮固定ワックスの除去。
特徴
芯取油をローリングアップで除去。油分が溶解しにくいため、
液ライフが長い。
引き上げ時に付着した油分も、すすぎ水中で速やかに拡散。
ZA-2Emc体育全站工程と油分除去のメカニズム

芯取り油を残渣なく、高速に除去可能!

4. セミクリーンの製品につきまして

私たちはこれまでに、液晶パネルや光学レンズの製造工程で使用するような、
工業用の“精密”Emc体育全站剤を多くのお客様にご提案してまいりました。

セミクリーンシリーズ:光学レンズ、フラットパネルディスプレイ、タッチパネル、治具用塗料剥離剤、ハードディスクなどに使用されるEmc体育全站剤がございます。

Emc体育全站力アップやダメージ低減だけでなく、危険物削減などのお手伝いも可能です。

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